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该课题组还采用NDI-N修饰其他高效率的活性层，分析包括PBDB-T:ITIC,DRTB-T:IDIC和PBDB-T:IT-M，分析所有器件的PCE均与文献报道的最高值相当，说明NDI-N是一种普适性的阴极界面层材料。在以往的研究报道中，广东具有高结晶度的小分子材料在成膜过程中很容易形成大尺寸的聚集，从而在薄膜表面产生缺陷，损害器件的光电子性能。

 在采用印刷工艺制备大面积器件的过程中，持推会不可避免产生薄膜厚度不均匀的问题。动集（d）30个NDI-N大面积器件的效率分布图。中国计量科学研究院（NIM）对该实验室制备的大面积（0.9 cm×0.9cm）器件进行了效率认证，中式最终的认证效率为12.20%。

X射线衍射分析显示 NDI-N的分子间π-π堆积距离为3.3Å，现货这是萘酰亚胺类材料最紧密的分子堆积方式之一，对电子传输十分有利。近五年内，数据市场发展了多种有效调制有机光伏材料特性的方法，提出并深入发展了二维共轭BDT类聚合物光伏材料体系，制备了多种高效聚合物光伏材料。

为了考察NDI-N作为阴极界面层对器件性能的影响，分析该课题组还制备了单层器件。

授权发明专利18项（中国16项，广东美国2项）。持推文献链接：Ferromagnetismof1T-MoS2Nanoribbonsstabilizedbyedgereconstructionanditsperiodicvariationonnanoribbonswidth（JACS,2018,DOI:10.1021/jacs.8b09247）。

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